رد کردن چند اعتقاد دیگر در مورد اسکچ ها
مردم اغلب می گویند که تعریف اسکچ ها به صورت کاملاً تعریف شده(fully) تمرین بسیار خوبی است. من کاملاً با این بیان موفق هستم. اما من از مردم شنیده ام که می گویند اسکچ های کاملا تعریف شده(fully defined) سریعتر (در سالیدورک) حل می شوند.
با این منطق که سالیدورک باید(درک کند و صبر کند تا بفهمد و زمان صرف کند) که چگونه اسکچ های کاملاً تعریف نشده (under-defined) را حل کند، اما اسکچ های کاملاً تعریف شده(fully defined)، قبلاً به طور واضح(از این نظر) مشخص شده اند. اجازه دهید این موضوع را در عمل مشاهده کنیم.
(تصویر 9.2) : مقایسه زمان های بازسازی(rebuild) یک اسکچ کاملا تعریف شده(fully defined) با یک اسکچ کاملاً تعریف نشده(completely undefined).

در این مثال، ما یک الگوی اسکچ 4×4 مستطیلی ایجاد کرده ایم و از ابزار Fully Define Sketch برای اضافه کردن دایمنشن ها استفاده کرده ایم. سپس این اسکچ را کپی و الصاق(paste) کرده ایم و تمام دایمنشن ها و رابطه های ترسیم را حذف کرده ایم. تصویر 9.2 نتایج Feature Statistic را نشان می دهد.
بهترین تمرین، استفاده از اسکچ های کاملاً تعریف شده(Fully defined) است اما این به خاطر سرعتِ بیشترِ بازسازی(rebuild) آنها نیست. رابطه های ترسیم اسکچ، از دیدگاه زمان بازسازی(rebuild-time) پرهزینه هستند. اما الگوسازیِ(Patterning) رابطه های ترسیم، پرهزینه تر هستند.
زمان بازسازی(rebuild) حتی به زمانی که ابزار Fully Define Sketch می گیرد تا تمام دایمنشن ها و رابطه های ترسیم را در مرحله اول ایجاد کند، نزدیک هم نمی شود. این ترکیب از هندسه و نرم افزار و سخت افزار، حدود 30 ثانیه از CPU زمان می گیرد تا رابطه های ترسیم و دایمنشن ها را اضافه کند.
در اکثر مدل هایی که کمتر از 50 فیچر دارند، ممکن است ما هرگز متوجه این زمان بازسازی(rebuild) نشویم. و هزینه ای که ما پرداخت می کنیم قطعاً ارزش آرامش خاطری را دارد که از ثبات یک اسکچ کاملاً تعریف شده(fully defined) به دست می آوریم.
برای مدل های بزرگ، که ما در آن صدها فیچر داریم، یا فیچرهایی داریم که از اسکچ های بسیار شلوغ استفاده می کنند، ما باید به اینکه چقدر اطلاعات در اسکچ قرار می دهیم، توجه کنیم و سعی کنیم الگوهای اسکچ(sketch patterns) و حتی عناصری مثل فیلت های اسکچ(sketch fillets) را محدود کنیم؛ و تا جای امکان از فیلت های فیچر(feature fillets) استفاده کنیم.
الگوسازی یک اسکچ
الگوهای اسکچ(Sketch patterns) یک ابزارِ در دسترس هستند؛ و معتبر هستند و انواع متعددی دارند. آنها واقعا ضروری هستند. این خوب است که انتیتی های اسکچی که می خواهیم الگوسازی کنیم را از قبل، با استفاده از ابزارSketch Pattern انتخاب کنیم. اگر انتیتی های اسکچ را از قبل انتخاب نکنیم، آنگاه پس از اینکه PropertyManager باز شد، تنها می توانیم یک به یک انتیتی ها را برای الگوسازی انتخاب کنیم؛ زیرا پنجره ی انتخاب، برای این عملکرد در دسترس نیست. گزینه های انتخاب کلیک راست ماوس(RMB)، از قبیل Select Chain، نیز در این رابط کاربری در دسترس نیست؛ که نیاز به الگوهای اسکچ(sketch patterns) بعنوان یک فیچر که از قبل انتیتی ها را انتخاب می کند، بیشتر می کند.
نکته: وقتی که دارید یک الگوی اسکچ خطی را ایجاد می کنید، اطمینان حاصل کنید که چک باکس Add Spacing Dimension را انتخاب کرده باشید. اگر این دایمنشن ها اضافه نشده باشند، آنگاه ویرایش الگو(pattern) سخت تر می شود.
استفاده از الگوی اسکچ خطی(Linear Sketch Pattern)
بخش PropertyManager از ابزار Linear Pattern در تصویر 9.3 نشان داده شده است. برخلاف دیگر PropertyManagerها،انتیتی های انتخاب شده برای عملکردهای الگوی اسکچ(sketch pattern) به جای بالا، در پایین این PropertyManager قرار گرفته اند. این کمی گیج کننده است.در بخش PropertyManager از ابزارهای اسکچ، مانند Convert Entities و Mirror، جعبه ی انتخاب در بالا قرار دارد. پنل Direction 1 به طور قابل پیش بینی با ایجاد جهت(direction) و فاصله گذاری(spacing) و سپس عدد مورد نظر کار می کند. تنظیم Angle به ما امکان می دهد تا یک جهت(direction) را مشخص کنیم که به هیچ چیز در بیرون از اسکچ متکی نیست.
پنل Direction 2 کمی متفاوت است. (در این پنل) ما ابتدا باید مشخص کنیم که چه تعداد نمونه(instances) می خواهیم و سپس اطلاعات دیگر در دسترس قرار خواهند گرفت. این فاصله گذاری، تا زمانی که ما بگوییم که می خواهیم بیش از یک نمونه(instance) در Direction 2 داشته باشیم، خاکستری می ماند.
(تصویر 9.3 : بخش PropertyManager از Linear Pattern)


استفاده از الگوی اسکچ دایره ای(Circular Sketch Pattern)
گزینه ی الگوی اسکچ دایره ای(Circular Sketch Pattern) به طور پیش فرض مبدا اسکچ را به عنوان مرکز الگو انتخاب می کند. ما می تونایم این نقطه را با استفاده از عددهای درون PropertyManager حرکت دهیم و موقعیت دهی کنیم اما نمی توانیم آن را تا زمانی که الگو ایجاد شود دایمنشن گذاری کنیم.
دوباره، یک فیچر دیگر داریم که نیاز داریم انتیتی های آن را از قبل انتخاب کنیم، زیرا پنجره ی انتخاب(window selection) در دسترس نیست(انتیتی های اسکچ الگوسازی شده باید یک به یک از قبل انتخاب شوند تا به داخل پنل Entities to Pattern بروند. تصویر 9.4 بخش PropertyManager را برای الگوی دایره ای(Circular Pattern) نشان می دهد.
(تصویر 9.4 : بخش PropertyManager از الگوی دایره ای)

- بازدید: 303
1. سعی کنید نظرات شما مرتبط با مقاله ی مورد نظر باشد، در غیر این صورت پاسخ داده نخواهد شد.
2. سوالات خود را به صورت کوتاه بیان کنید و از پرسیدن چند سوال به طور همزمان خودداری کنید.
3. سوال خود را به طور واضح بیان کنید و از کلمات مبهم استفاده نکنید.